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GDZT-100-200-30高低溫循環(huán)裝置廠家能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、反應槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設備的加熱和冷卻。溫度控制范圍寬，全程不需更換導熱介質，導熱介質消耗少。液位顯示功能，隨時監(jiān)控液位，避免缺液。
GDZT-50-200-30密閉高低溫一體機能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、反應槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設備的加熱和冷卻。
GDZT-100-200-30密閉高低溫一體機能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、反應槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設備的加熱和冷卻。
GDZT-100-200-30密閉式制冷加熱循環(huán)器能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、反應槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設備的加熱和冷卻。
高低溫一體機（-40~200℃）能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、反應槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設備的加熱和冷卻。
高低溫一體機GDZT-20-200-40能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設備的加熱和冷卻。
密閉式制冷加熱一體機能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、反應槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設備的加熱和冷卻。
密閉高低溫恒溫水浴槽GDZT-20-200-30能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、反應槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設備的加熱和冷卻。